站長資訊網6 月 10 日消息 界面新聞報道，近期，上海微電子裝備 (集團)股份有限公司披露，將在 2021-2022 年交付第一臺 28nm 工藝的國產沉浸式光刻機。國產光刻機將從此前的 90nm 工藝一舉突破到 28nm 工藝。
據了解，上海微電子裝備 (集團)股份有限公司 (簡稱 SMEE)主要致力于半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、制造、銷售及技術服務。公司設備廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD 面板、MEMS、LED、Power Devices 等制造領域。
目前上海微電子光刻機產品包括 IC 前道制造 SSX600 系列光刻機;IC 后道先進封裝 SSB500 系列光刻機; LED、MEMS、Power Devices 制造 SSB300 系列光刻機; TFT 曝光 SSB200 系列光刻機。
其中，SSX600 系列步進掃描投影光刻機采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調焦調平技術，以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術，可滿足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求。該設備可用于 8 寸線或 12 寸線的大規模工業生產。
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